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  • L2004A1Ossila公司接觸角測(cè)量儀
    L2004A1Ossila公司接觸角測(cè)量儀

    英國Ossila公司接觸角測(cè)量儀為科學(xué)家們提供了一種快速、可靠且簡便的測(cè)量液滴接觸角的方法。其價(jià)格經(jīng)濟(jì),形體小巧,PC軟件直觀、操作便捷,使更多的研究人員能夠快速進(jìn)行這種多功能測(cè)量。廠家提供質(zhì)保期2年。

    時(shí)間:2024-10-25型號(hào):L2004A1訪問量:3724
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  • L2006英國Ossila浸漬提拉鍍膜機(jī)
    L2006英國Ossila浸漬提拉鍍膜機(jī)

    英國Ossila浸漬提拉鍍膜機(jī)性能,內(nèi)置軟件,操作簡單,價(jià)格經(jīng)濟(jì),為科研領(lǐng)域工作者提供一款理想的適用于液相鍍膜制備而設(shè)計(jì)的精密儀器。目前在化學(xué)、材料科學(xué)的研究中,被廣泛應(yīng)用于溶膠-凝膠(sol-gel)法薄膜材料制備。如硅片、晶片、玻璃、陶瓷、金屬等所有固體材料表面薄片材料鍍膜工藝,可以精準(zhǔn)控制膜片提出速度,進(jìn)而控制涂層厚度,保證良好重復(fù)性。提供2年的質(zhì)保,為使用者提供更高的保障。

    時(shí)間:2024-10-25型號(hào):L2006訪問量:3964
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  • L2005英國Ossila小型狹縫涂布儀
    L2005英國Ossila小型狹縫涂布儀

    英國Ossila小型狹縫涂布儀結(jié)構(gòu)緊湊,價(jià)格實(shí)惠,使用簡單,準(zhǔn)確度高。 對(duì)于那些希望在小型實(shí)驗(yàn)室中擴(kuò)大實(shí)驗(yàn)工藝的用戶來說,它是理想之選。與卷對(duì)卷和片對(duì)片沉積工藝相兼容,狹縫涂布是用于可擴(kuò)展沉積薄膜的技術(shù)之一。其廣泛的加工窗口確保穩(wěn)定、無缺陷的沉積,適用于各種粘度的溶液。薄膜均勻度高,準(zhǔn)確且可重復(fù),厚度可通過改變流速和基材速度來控制。

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  • L2001勻膠旋涂儀
    L2001勻膠旋涂儀

    英國Ossila公司勻膠旋涂儀,操作簡單,方便實(shí)用,旋涂均勻,結(jié)構(gòu)小巧緊湊,為實(shí)驗(yàn)室提供了理想的解決方案,其采用創(chuàng)新設(shè)計(jì)的非真空卡盤式旋涂吸盤,無需真空泵或充氮?dú)?,就能達(dá)到很好的旋涂效果。勻膠旋涂儀可對(duì)大小不同規(guī)格的基材都可進(jìn)行旋涂,尤其是對(duì)超薄樣品,即使基片厚度0.7毫米、0.55毫米、0.2毫米或更薄時(shí)同樣能達(dá)到旋涂效果。不會(huì)出現(xiàn)真空吸盤旋涂較薄的基材襯底翹曲現(xiàn)象,影響涂層的均勻性。勻膠旋涂儀廣泛應(yīng)用于微電子、半導(dǎo)體、制版、新能源、生物材料、光學(xué)及表面涂覆等工藝。

    時(shí)間:2024-10-25型號(hào):L2001訪問量:3720
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  • L2001英國Ossila Spin Processor
    L2001英國Ossila Spin Processor

    英國Ossila SpinProcessor,操作簡單,方便實(shí)用,旋涂均勻,結(jié)構(gòu)小巧緊湊,為實(shí)驗(yàn)室提供了理想的解決方案,其采用創(chuàng)新設(shè)計(jì)的非真空卡盤式旋涂吸盤,無需真空泵或充氮?dú)?,就能達(dá)到很好的旋涂效果??蓪?duì)大小不同規(guī)格的基材都可進(jìn)行旋涂,尤其是對(duì)超薄樣品,即使基片厚度0.7毫米、0.55毫米、0.2毫米或更薄時(shí)同樣能達(dá)到完美的旋涂效果。不會(huì)出現(xiàn)真空吸盤旋涂較薄的基材襯

    時(shí)間:2024-10-25型號(hào):L2001訪問量:2579
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  • L20001英國Ossila-Spin Coater
    L20001英國Ossila-Spin Coater

    英國Ossila-Spin Coater操作簡單,方便實(shí)用,旋涂均勻,結(jié)構(gòu)小巧緊湊,為實(shí)驗(yàn)室提供了理想的解決方案,其采用創(chuàng)新設(shè)計(jì)的非真空卡盤式旋涂吸盤,無需真空泵或充氮?dú)猓湍苓_(dá)到很好的旋涂效果。可對(duì)大小不同規(guī)格的基材都可進(jìn)行旋涂,尤其是對(duì)超薄樣品,即使基片厚度0.7毫米、0.55毫米、0.2毫米或更薄時(shí)同樣能達(dá)到較好的旋涂效果。不會(huì)出現(xiàn)真空吸盤旋涂較薄的基材襯底翹曲現(xiàn)象,影響涂層的均勻性。

    時(shí)間:2024-10-25型號(hào):L20001訪問量:3101
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  • L2002Ossila-UV Ozone Cleaner
    L2002Ossila-UV Ozone Cleaner

    UV Ozone Cleaner是一種簡單,經(jīng)濟(jì),快速的材料表面清洗設(shè)備,只需把樣品放置到樣品盤上,關(guān)上艙門,設(shè)置時(shí)間,并按運(yùn)行,就可以了,能快速去除大多數(shù)無機(jī)基材(比如石英,硅片,金,鎳,鋁,砷化鎵,氧化鋁等)上的有機(jī)污染物。特別是當(dāng)基材和薄膜蒸鍍需要很好的粘接時(shí),紫外清洗非常理想。要獲得超潔凈的表面,只需要在傳統(tǒng)清洗后,再用紫外臭氧清洗幾分鐘就可獲得!

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  • PSDP-UVNovascan-UV Ozone Cleaner
    PSDP-UVNovascan-UV Ozone Cleaner

    Novascan-UVOzoneCleaner,PSDP-UVT系列紫外臭氧清洗機(jī)增加了一個(gè)可控溫的加熱樣品臺(tái),通過PID數(shù)字控制器精準(zhǔn)反控加熱樣品臺(tái)溫度,控溫范圍可達(dá)150℃ (200℃可選配)。將PSDP-UV系列的清洗能力提升到了新的水平,能大程度的分解有機(jī)分子物質(zhì)。

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